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产品简介:霍尔效应测量系统 L79/HCS系统可用于半导体组件性能表征,包括:迁移率,电阻率,载流子浓度和霍尔常数。
产品型号:
更新时间:2024-05-21
厂商性质:生产厂家
访问量:2855
86-021-50550642
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基本型提供不同形状和温度条件下所需的样品支架。选配低温(液氮)附件结合高温炉(zui高温度可达240°C)可保证所有应用领域环境条件下的测试。永磁体和电磁铁可提供高达数个特斯拉强度的固定或者可变磁场。
基于测量软件可显示的视窗内容包括I-V和I-R数据图。
系统可测试多种材料包括Si,SiGe,SiC,GaAs,InGaAs,InP,GaN(N型或P型均可测量),金属膜,氧化物等,样品测试时便可完成系统功能演示。
霍尔效应测量系统 L79/HCS 特点:
•载流子浓度
•电阻率
•迁移率
•电导率
•α(水平电阻值/垂直电阻值)
•霍尔常数
•磁致电阻
技术参数:
输入电流:500nA到10mA (500nA步长)
霍尔电压:0.5到4.5V
极限分辨率:65pV
样品形状:15x15,20x20,25x25mm,高度可达5mm
磁场强度:可达 1T
传感器:液氮温度到240°C