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薄膜综合物性分析仪

产品简介:新型林赛斯 薄膜综合物性分析仪 TFA L59,是一款高度集成、易于操作的薄膜物性测量平台。它采用独特预结构化芯片,支持多种沉积方法,可在单次测量中同时精确获得薄膜的导热系数、塞贝克系数、电阻率等多种关键物理参数,温度范围覆盖-160°C至280°C,是半导体、陶瓷及有机材料薄膜研发的工具。

产品型号:TFA L59

更新时间:2026-02-05

厂商性质:生产厂家

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产品介绍

薄膜综合物性分析仪

新型林赛斯 薄膜综合物性分析仪 TFA L59 设备可用于表征薄膜的物理特性,它是一个高度集成且易于使用的测量平台。


TFA L59 基本配置包括一个测量芯片(样品可以轻松地沉积在其上面)以及一个用于提供所需环境条件的测量腔室。根据应用的不同,该配置可与锁相放大器和 / 或强电磁体配合使用。测量通常在高真空条件下进行,并且在测量过程中,利用液氮(LN2)和功率强劲的加热器,样品温度可控制在 -160 ℃ 至 280 ℃ 之间。


该芯片融合了用于测量导热系数的 3ω 测试技术,以及用于测定电输运性能的四探针范德堡测试结构,塞贝克系数可以通过位于范德堡电极附近集成的电阻温度计来测量。为了便于样品制备,可以使用剥离箔掩模或金属荫罩。


这种配置允许对通过物理气相沉积(PVD,例如热蒸发、溅射、分子束外延)、化学气相沉积(CVD,例如原子层沉积)、旋涂、滴铸或喷墨打印等方法制备的样品,在一步操作中几乎同时进行表征。


该系统的一大优势在于能够在一次测量过程中同时测定多种物理性质。所有的测量都是在相同的(面内)方向上进行的,因此具有很强的可比性。

独特功能
  • 基于芯片的测量装置,配备集成且预先结构化的芯片作为耗材
  • 对于不同的材料、厚度、电阻以及沉积方法具有高度的灵活性
  • 高质量且易于使用的薄膜(nm 至 μm 范围)表征系统
  • 对于半导体、金属、陶瓷和有机材料,在同一样品上沿相同方向进行的单次测量过程中可完成所有特性参数的测量。
  • 易于样品制备和处理
  • 宽广的温度范围(-160 ℃ - 280 ℃)



林赛斯 薄膜综合物性分析仪 TFA L59


规格参数
类型TFA L59

温度范围:RT - 280 °C
-160 °C - 280 °C
电子电路:集成式
样品厚度:5 nm - 25 μm(取决于样品)接口:USB
测量原理:基于芯片构造(预结构化测量芯片,每盒 24 个)导热系数:0.05 - 200 W/(m∙K)
样品制备方法:物理气相沉积(溅射、蒸发)、原子层沉积、旋涂、喷墨打印等电阻率:
0.05 - 1 × 106 S/cm
测量参数:导热系数 (3ω 法)
比热容
塞贝克系数:5 - 2500 μV/K
可选模块:塞贝克系数 / 电导率 / 电阻率
霍尔常数 / 霍尔迁移率 / 电荷载流子密度
(电磁体(磁场强度)可达 1 T,永磁体(磁场强度)为 0.5 T)
霍尔迁移率:1 - 107(cm2/Volt sec)
真空度:可达 10-5 mbar载流子浓度:107 - 1021(1/cm³)
应用
适用于表征 nm 至 μm 厚度范围的薄膜的物理特性,如半导体、金属、陶瓷和有机材料。



 

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