L75 / High Pressure高温膨胀仪

产品简介：德国林赛斯 L75 / High Pressure高温膨胀仪：
Linseis研发的单杆-热膨胀仪、双杆-热膨胀仪、差示-热膨胀仪、四杆-热膨胀仪、淬火-热膨胀仪（热膨胀相变仪）、激光热膨胀仪和光学法膨胀仪等多种设备，测量温度范围从-180°C—2800°C，分辨率高达0.3nm。 Linseis多年的热膨胀仪研究经验（始于1953年），Linseis的热膨胀仪具有的优异性能。

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更新时间：2025-07-14

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热膨胀仪

高温膨胀仪热膨胀测定热膨胀相变仪

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如何选择适合的高温膨胀仪？

高温膨胀仪在材料科学中有哪些应用？

如何操作高温膨胀仪进行材料热膨胀系数的测量？

高温膨胀仪的原理及其在实际应用中的重要性

产品介绍

L75 / High Pressure高温膨胀仪大大拓展了热分析的应用范围。该系统可以在温度从室温到1100/1400/1800 ℃，并在该压力达到100/150 bar的环境中测量的材料的膨胀(长度的改变)。此设备是目前世界上可用的高压膨胀仪。可选用水蒸气发生装置和多气体控制系统。

为了测量数据和拓宽测量范围，可以使用QMS和FTIR对逸出的气体进行分析。耦合后的功能超过单独部件的总和。用户通过LINSEIS耦合技术和综合硬件和软件，采用不同数据库对数据进行分析以得到*的结果。

L75 / High Pressure高温膨胀仪技术参数：

型号	DIL L75 HP / 1	DIL L75 HP/2
温度范围*	RT -- 1100°C	RT -- 1400/1800°C
zui大压力	zui大150 bar	zui大100 bar
真空	10E-4 mbar	10E-4 mbar
样品支架	熔融石英 < 1100°C	熔融石英 < 1100°C
	Al2O3 < 1750°C	Al2O3 < 1750°C
zui大样品长度	50 mm	50 mm
样品直径	7/12/20 mm	7/12/20 mm
可调样品压力	zui大 1000 mN	zui大 1000 mN
测量范围	500 / 5000 µm	500 / 5000 µm
分辨率	0.125 nm	0.125 nm
可选装置	压力可控混气系统 (MFC´s)	压力可控混气系统 (MFC´s)
气氛	惰性, 氧化性, 还原性, 真空	惰性, 氧化性, 还原性, 真空